次大氣壓下輝光放電的視覺特征呈現均勻的霧狀放電,放電的電流電學特征為單脈沖,放電溫度為室溫。次大氣壓輝光放電可以處理各種高分子材料、生物材料、金屬材料、紡織品材料、異型材料。設備成本低、處理的時間短、可加入各種氣氛,氣氛含量高、功率密度大、處理效率高。可應用于表面聚合、表面接枝、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學合成及各種粉、粒、片材料的表面改性和的表面處理。電子和離子的能量可達10eV以上。材料批處理的效率要高于低氣壓輝光放電10倍以上。
        主要應用于表面清洗、改善復合材料粘附性、細胞培養皿,組織培養皿的親水、心臟冠狀動脈支架、生物傳感器的表面處理。

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次大氣壓低溫等離子清洗機,次大氣壓輝光放電處理機,次大氣壓低溫等離子表面改性設備

                        HPD-2400生產型設備

                       次大氣輝光放電處理機

規格:
1. 型號:HPD-2400;
2. 電源:三相AC380V(±10%)
3. 功率:1000VA;
4. 電極尺寸:500mm×450mm;
5. 設備尺寸:720(W)×1360(H)×765(D)mm
6. 設備重量:180kg

7. 腔體壓力:500~3000Pa

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                     次大氣輝光放電效果圖

用途:

1. 酶標板、細菌計數培養皿、細胞培養皿、組織培養皿的親水處理。經過等離子體處理后細菌培養皿表面由疏水變為親水,并獲得支持細胞黏附鋪展的能力.并適用于細胞培養。等離子表面處理的效果可以簡單地用滴水來驗證,處理過的樣品表面完全被水潤濕。
2. 生物芯片、人造血管、血管支架的處理
3. 等離子清洗、刻蝕、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理,能夠改善材料的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染物、油污或油脂。

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                        HPD-280實驗型設備

                       次大氣輝光放電處理機


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                        次大氣輝光放電效果圖

規格:
1. 型號:HPD-280
2. 電源:單相AC220V(±10%)
3. 功率:500VA;
4. 電極尺寸:160mm×160mm;
5. 設備尺寸:620(W)×750(H)×450(D)mm
6. 設備重量:100kg
7. 腔體壓力:500~3000Pa

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                        HPD-100C實驗型設備
                      低氣壓氣輝光放電處理機

規格:
1. 型號:HPD-100C
2. 電源:單相AC220V(±10%)
3. 功率:500VA;
4. 腔極尺寸:100mm×200mm;
5. 設備尺寸:620(W)×750(H)×450(D)mm
6. 設備重量:100kg
7. 腔體壓力:20~200Pa


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