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                          PG-100~2500D
                           輝光放電處理站

PG-D系列低溫等離子大氣輝光放電薄膜、薄片或片材處理站,采用了蘇曼公司的專有技術,即殘留電子大氣輝光放電技術,使等離子放電達到了準輝光均勻放電效果。使用特點是處理均勻,處理的材料表面張力高(可以達到72達因以上),不會損壞材料的表面,不降低材料的阻隔性,特別適合處理各種織物、要求高表面張力的材料和難處理的材料(如PP、PTFE/Teflon)。單面處理寬度可以在100~2500mm定制。產品結構為全不銹鋼,雙氣缸開合,使用簡單

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                          PG-100~2500S
                          輝光放電處理站

PG-S系列低溫等離子大氣輝光放電薄膜、薄片或片材處理站,采用了蘇曼公司的專有技術,即殘留電子大氣輝光放電技術,使等離子放電達到了準輝光均勻放電效果。使用特點是處理均勻,處理的材料表面張力高(可以達到72達因以上),不會損壞材料的表面,不降低材料的阻隔性,特別適合處理各種織物、要求高表面張力的材料和難處理的材料(如PP、PTFE/Teflon)。雙面處理寬度可以在100~2500mm定制。產品結構為全不銹鋼,雙氣缸開合,使用簡單

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                                PG-6000G
                  低溫等離子光學薄膜處理機


處理寬度:600mm(單面)(或定制)
設備體積:1100(W)×1800(H)×650(D)mm3
設備重量:380kg;
電源:AC380V(±20%),其它電壓定制(AC220~460V)
設備特點:低溫等離子處理、高張力(70達因以上)、帶收解卷。 


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